每个产品都不希望产品表面出现凹凸不平、坑坑洼洼的所以硅胶制品的表面光洁度很重要。硅胶制品主模具的抛光方法主要是降低模具钢表面的粗糙度。为了真正保证硅胶制品的表面光洁度，需要从模具工艺入手。硅胶模具的表面光洁度工艺有哪些处理方法?

　　模具抛光可分为多种工艺方法，硅胶模具采用不同的处理方法，其中以下表面处理方法是常见工艺!

　　一、电解抛光。

　　电解抛光是选择性溶解材料表面的微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果更好。电化学抛光过程分为两个步骤：

　　宏观平整溶解产物扩散到电解液中，材料表面几何粗糙度降低，Ra>1μm。

　　微光平整阳极极极化，表面光亮度提高，Ra-1μm。

　　二、机械抛光。

　　机械抛光是通过切割材料表面的塑性变形来去除抛光后的凸部，从而获得光滑表面的抛光方法。一般采用油石条、羊毛轮、砂纸等。，主要是手动操作。旋转体表面等特殊零件可以使用转盘等辅助工具，表面质量要求高的可以采用超精研抛。超精研抛采用特殊磨具，在含有磨料的研抛液中，压在工件加工表面，进行高速旋转运动。该技术可实现Ra0.008μm的表面粗糙度，在各种抛光方法中较高。

　　三、超声抛光。

　　超声抛光是以超声为动力，以极高的速度推动细极高的速度冲击工件表面，迫使磨料加工被加工表面，从而降低其表面粗糙度的抛光方法。

　　四、流体抛光。

　　流体抛光依靠高速流动的液体及其所携带的磨粒来冲刷工件表面。常用的方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨由液压驱动，使带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要由低压下流过性好的特殊化合物和磨料制成，磨料可以是碳化硅粉末。

　　五、磁研磨抛光。

　　磁磨抛光是利用磁磨在磁场作用下形成磨刷，对工件进行磨削。该方法加工效率高，质量好，加工条件易于控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可达Ra0.1μm。

　　对于硅胶制品生产厂家来说，模具的抛光光洁度取决于产品的外观质量，因此，同样的抛光工艺是一个重要的工序，不同于其他行业的抛光工艺，相对来说，模具抛光也是为了提高硅橡胶制品的加工效率和产品质量所以你购买的硅胶产品的表面光洁度正式取决于模具的抛光工艺。