每个产品都不希望产品表面不均匀、坑坑洼洼的面部，所以硅胶产品的表面光洁度很重要。硅胶产品主模抛光方法主要是降低模具钢表面的粗糙度。要真正保证硅胶产品的表面光洁度，还需要从模具工艺入手，那么硅胶模具的表面光洁度工艺有哪些处理方法呢？

模具抛光可分为多种工艺方法，硅胶模具采用不同的处理方法，其中以下表面处理方法是常见的工艺！

电解抛光：

电解抛光依靠选择性溶解材料表面的微小突出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，它能消除阴极反应的影响，效果更好。电化学抛光过程分为两个步骤：

(1)宏观整平溶解产物扩散到电解液中，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。

(2)微光平整阳极化，表面光亮度提高，Ra1μm。

机械抛光：

机械抛光是通过切割材料表面的塑性变形来去除抛光后的凸面，得到光滑表面的抛光方法。一般采用油石条、羊毛轮、砂纸等。，主要是手动操作。特殊零件，如旋转体表面，可使用转台等辅助工具。对于表面质量要求高的，可采用超精研磨抛光法。超精研磨是一种特殊的磨具，在含有磨料的研磨液中压在工件的加工表面，进行高速旋转运动。该技术可达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。

超声波抛光：

超声波抛光是以超声波为动力，以极高的速度推动小磨粒冲击工件表面，迫使磨料加工加工表面，从而降低其表面粗糙度的抛光方法。

流体抛光：

流体抛光依靠高速流动的液体及其磨粒冲刷工件表面，达到抛光的目的。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要由低压下流动性好的特殊化合物和磨料制成，磨料可以是碳化硅粉末。

磁研磨抛光:

磁磨抛光是利用磁磨在磁场作用下形成磨刷，磨削工件。该方法加工效率高，质量好，加工条件易于控制，工作条件好。使用合适的磨料，表面粗糙度可达到Ra0.1μm。

在硅胶制品制造商模具抛光清洁度取决于产品的外观质量，所以抛光过程是一个重要的过程，与其他行业抛光过程不同，模具抛光也是提高硅橡胶产品加工效率和产品质量等，所以您购买硅胶产品表面清洁度正式取决于模具抛光过程！